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平行光曝光機ZKUE-M552

平行光曝光機ZKUE-M552

平行光曝光機專門用於FILM黃光製程而設計製作的專用設備,係統采用進口平行光源、雙工位抽屜進出曝光平台交替工作進行FILM濕膜、幹膜曝光。雙工位平台真空吸附將FILM與MASK貼緊,曝光解析度20UM。

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產品簡介 / INTRODUCTION

平行光曝光機


一、設備概述
   平行光曝光機專門用於FILM黃光製程而設計製作的專用設備,係統采用進口平行光源、雙工位抽屜進出曝光平台交替工作進行FILM濕膜、幹膜曝光。雙工位平台真空吸附將FILM與MASK貼緊,曝光解析度20UM。
 
二、設備規格以及主要技術指標
◆產品規格:有效曝光麵積400MM x 500MM
曝光平台麵積> 500MM x 600MM
◆電源: AC380V 3f 50HZ 7KVA
◆機台外尺寸: W1350MM x L3250MM x H2350MM
◆曝光方式:單麵曝光玻璃VS玻璃x 2組,采用電磁鎖控製
◆曝光燈管: 5KW x 1PCS(平行光曝光燈)曝光光強> 20MW/Cm,燈管保用800H
◆光學係統:采用進口曲麵MIRROR反射光學係統
◆曝光均勻度: > 90%
◆冷卻係統:燈管:外部冰水冷卻內循環水.台麵:強製氣冷式
◆曝光控製器:智慧型人機界麵及曝光能量控製(能量模式及時間模式)
◆真空係統: 400MMHG以上
◆燈源: UV能量積分器進行曝光能量設置和控製主動風冷式降溫保護(有緊急停止保護)
◆空壓係統: 4-7KF/CM2,中12MM, 200L /MIN
◆平行半角: DA<2。
◆曝光精度:線路寬30UM,線間距30UM
◆曝光能量設置: 365NM
◆點燈計時:配置時間計時器,可清零
◆平台平麵精度: 0.02MM內
◆平台真空:平台真空將FILM與MASK貼緊(使用鉻版時可不用)
◆平台進出曝光區:上下框架交替進出
◆機內環境: CL ASS100內檢測係統:程序及傳感器檢測動作到位狀況
◆燈管保護:燈室過熱檢知及門打開時UV燈強製熄滅

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